uv镀膜均匀性:
1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），余姚UV镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，余姚UV镀膜没有任何障碍。 但是假如是指原子层标准上的均匀度，也就是说要完成10A乃至1A的表面平整，是现在余姚UV镀膜中首要的技能含量与技能瓶颈地点，详细控制要素下面会根据不同镀膜给出详细解说。
2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很容易的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是余姚UV镀膜的技能含量地点。 详细要素也在下面给出。
3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是余姚UV镀膜技能中的热点问题，详细见下。
首要分类有两个大品种： 蒸腾堆积镀膜和溅射堆积镀膜，详细则包括许多品种，包括真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。
